电子束曝光系统

Raith ELPHY Quantum Electron Lithography （kit） 生产厂家：德国Raith公司            

主要性能指标   

单次曝光精度约 100nm；套刻精度约 600nm。
 

主要功能

电子束曝光是目前公认的最好的高分辨率图形制作技术。本设备可以制备特征尺寸约100nm的图形的微细加工（详见下图）。主要用于精密二维掩膜制造、微纳器件加工等。  

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