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Raith ELPHY Quantum Electron Lithography (kit) 生产厂家:德国Raith公司
主要性能指标
单次曝光精度约 100nm;套刻精度约 600nm。
电子束曝光是目前公认的最好的高分辨率图形制作技术。本设备可以制备特征尺寸约100nm的图形的微细加工(详见下图)。主要用于精密二维掩膜制造、微纳器件加工等。
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